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TCU温度控制系统

TCU温度控制系统

产品中心-旧 1204

无锡冠亚TCU温控系统可实现-120度~300度的动态控温,TCU温控系统采用现有的热能(如蒸汽、冷却水及超低温液体——即“初级系统”)基础设施集成到用来控制工艺设备温度的单流体系统或二级回路中。这就完成了只有一种热传导液体流入到反应容器的夹套中(而不是直接通入蒸汽、冷却水或超低温液体),通过运算控制整个反应过程温度。

温度过程控制原理(控制反应釜物料温度):

1、改变控制设定值的方法,能够尽快的响应过程中的系统滞后,得到较小的系统过冲。控制由两组PID(每组PID是可变的)控制回路构成,这两组控制回路称为:主回路和从回路,主回路的控制输出作为从回路的设定值。系统采用带有前馈PV ,主控回路的PID运行结果的输出与前馈PV信号复合后作为从控制回路的设定值,通过这样对温度变化梯度控制,保证系统控温精度。(一般抗滞后串级控制)
2、专门设计的滞后预估器(无模型自建树算法)产生一个代替过程变量y(t)的动态信号yc(t)来作为反馈信号。对控制器产生一个e(t)信号,使控制器预判控制作用没有大的滞后,这样控制器总是能够产生一个合适的控制信号。也就是说,即使存在大滞后,这个动态信号yc(t)也能保持反馈回路正常工作.而用一般PID来控制具有显著时间滞后的过程,则控制器输出在滞后时间内由于得不到合适的反馈信号保持增长,从而导致系统响应超调大甚至使系统失控。
3、通过三点采样(物料温度点、温控系统出口温度、温控系统进口温度),通过我们公司自创无模型自建树算法和一般抗滞后串级算法相结合。

SR原理图

使用单流体热传递控温系统的优点:
A、用户可以在一个较宽的温度范围得到一个密闭的、可重复的温度控制,可实现-120度~300度控温;
B、避免了传统设备设施的更换及夹套维护的需求;较小的流体体积也保证了控制回路快速的反应并且热反应延迟很小;
C、内置电加热导热油辅助系统,可根据需求自动开启辅助加热系统,降低蒸汽使用压力;
D、可以通过快速运行准确配比各热量需求,达到节约能源目的;
E、通过准确快速运算控制整个反应过程温度,对于整个反应过程中出现放热和吸热反应进行快速响应控制;
F、预留有标准化接口,可根据实际需求增加冷热源换热模块;
G、可选择控制反应过程温度和单流体温度,同时反应过程温度与导热单流体温度之间的温差是可设定可控制的;
H、可进行配方管理与生产过程记录;

产品型号控温范围 °C控温精度 °C加热功率 kW流量 L/min压力 bar电源功率
ZLF-35N/35NS
/35NH/35NSH
-45~+250±1251502.5380V 50HZ 27.3kW
ZLF-50N/50NS
/50NH/50NSH
-45~+250±1352002.5380V 50HZ 38.5kW
ZLF-80N/80NS
/80NH/80NSH
-45~+250±1504002.5380V 50HZ 54.5kW
ZLF-125N/125NS
/125NH/125NSH
-45~+250±1655002.5380V 50HZ 73kW
ZLF-200N/200NS
/200NH/200NSH
-45~+250±1807502.5380V 50HZ 90.5kW
SR-35N/35NS
/35NH/35NSH
-120~+250±1252002.5380V 50HZ 27.3kW
SR-50N/50NS
/50NH/50NSH
-120~+250±1352502.5380V 50HZ 38.5kW
SR-80N/80NS
/80NH/80NSH
-120~+250±1504002.5380V 50HZ 54.5kW
SR-125N/125NS
/125NH/125NSH
-120~+250±1655002.5380V 50HZ 73kW
SR-200N/200NS
/200NH/200NSH
-120~+250±1807502.5380V 50HZ 90.5kW

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