厂家实力视频:
生产车间面积超2.5万㎡,公司现有员工340余人,其中研发技术人员占20%,公司现有厂房面积25000㎡,年产量5000台,连续2年产值超3亿。
产品应用
广泛用于半导体、新材料、生物工程、航天工业、医疗、化工等行业; 配微通道、真空设备、蒸馏系统、老化测试等
常见的配套设备有高压反应釜、双层玻璃反应釜、双层反应釜、微通道反应器 蒸馏结晶、半导体设备冷却、材料老化、结晶系统控温
结构原理及优势
高温时没有导热介质蒸发出来,而且不需要加压的情况下就可以实现 -80~190℃、-70~220℃、-55~250℃连续控温;
采用全密闭管道式设计,降低导热液需求量的同时,提高系统的热量利 用率,达到快速升降温度。 膨胀容器中的导热介质不参与循环,可以降低导热介质在运行中吸收水分和挥发的风险
型号 |
SUNDI-825W |
SUNDI-835W |
SUNDI-855W |
SUNDI-875W |
SUNDI-8A10W |
SUNDI-8A15W |
SUNDI-8A25W |
介质温度范围 |
-80℃~+250℃ |
控制系统 |
前馈PID ,无模型自建树算法,PLC控制器 |
温控模式选择 |
物料温度控制与设备出口温度控制模式 可自由选择 |
温差控制 |
设备出口温度与反应物料温度的温差可控制、可设定 |
程序编辑 |
可编制5条程序,每条程序可编制40段步骤 |
通信协议 |
MODBUS RTU 协议 RS 485接口 |
外接入温度反馈 |
PT100或4~20mA或通信给定(默认PT100) |
温度反馈 |
设备导热介质 进口温度、出口温度、反应器物料温度(外接温度传感器)三点温度 |
导热介质温控精度 |
±0.5℃ |
反应物料温控精度 |
±1℃ |
加热功率 kW |
3 |
3.5 |
5.5 |
7.5 |
10 |
15 |
25 |
制冷量 kW AT |
250℃ |
2.5 |
3.5 |
5.5 |
7.5 |
10 |
15 |
25 |
20℃ |
2.5 |
3.5 |
5.5 |
7.5 |
10 |
15 |
25 |
-60℃ |
1 |
1.4 |
1.6 |
3 |
3.5 |
5.8 |
10 |
-75℃ |
0.3 |
0.42 |
0.7 |
1.3 |
1.5 |
2.4 |
5 |
流量压力max
L/min bar |
20 |
35 |
35 |
50 |
60 |
110 |
150 |
1.2 |
1.2 |
1.2 |
1.2 |
1.5 |
1.5 |
1.5 |
循环泵 |
磁力驱动泵 |
压缩机 |
艾默生谷轮涡旋柔性压缩机/卡莱尔 |
节流方式 |
电子膨胀阀 |
蒸发器 |
板式换热器 |
操作面板 |
7英寸彩色触摸屏,温度曲线显示、记录 |
安全防护 |
具有自我诊断功能;冷冻机过载保护;高压压力开关,过载继电器、热保护装置等多种安全保障功能。 |
密闭循环系统 |
整个系统为全密闭系统,高温时不会有油雾、低温不吸收空气中水份,系统在运行中不会因为高温使压力上升,低温自动补充导热介质。 |
制冷剂 |
R-404A/R508B |
接口尺寸 |
ZG1/2 |
ZG3/4 |
ZG3/4 |
ZG1 |
ZG1 |
ZG1 |
DN32 |
水冷型 W
温度 20度 |
1800L/H
1.5bar~4bar
ZG3/4 |
2000L/H
1.5bar~4bar
ZG3/4 |
2400L/H
1.5bar~4bar
ZG3/4 |
3500L/H
1.5bar~4bar
ZG1 |
3600L/H
1.5bar~4bar
ZG1 |
5200L/H
1.5bar~4bar
ZG1 1/4 |
10m³/H
1.5bar~4bar
DN40 |
外形尺寸 cm |
55*70*175 |
55*70*175 |
65*85*185 |
70*85*185 |
70*85*185 |
80*120*185 |
150*100*185 |
重量kg |
240 |
285 |
345 |
500 |
600 |
950 |
1300 |
电源 380V 50HZ |
7.5kW |
9kW |
12kW |
17kW |
22kW |
32kW |
54kW |
外壳材质 |
冷轧板喷塑 (标准颜色7035) |
选配 |
可选配以太网接口,配置电脑操作软件 |
选配 |
选配外置触摸屏控制器,通信线距离10M |
选配电源 |
100V 50HZ单相,110V 60HZ 单相,230V 60HZ 单相, 220V 60HZ 三相,440V~460V 60HZ 三相 |
选配 |
加热功率25kW以内sundi系列可选配介质控温精度士0.1℃,物料控温精度±0.1℃ |
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