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SUNDI -70℃~+250℃

SUNDI -70℃~+250℃

制冷加热控温系统的典型应用:高压反应釜冷热源动态恒温控制、双层玻璃反应釜冷热源动态恒温控制、双层反应釜冷热源动态恒温控制、微通道反应器冷热源恒温控制;小型恒温控制系统、蒸馏系统控温、材料低温高温老化测试、组合化学冷源热源恒温控制、半导体设备冷却加热、真空室制冷加热恒温控制。

制冷加热控温系统优点与功能:温度范围从-120℃至350℃,性能优越,高精度、智能型温度控制。多功能报警系统和安全功能、7寸、10寸彩色TFT触摸屏图形显示,采用磁力驱动泵,没有轴封泄漏问题。高温降温技术,可以从300℃直接制冷降温【因为只有膨胀腔体内的导热介质才和空气中的氧气接触(而且膨胀箱的温度在常温到60度之间),可以达到降低导热介质被氧化和吸收空气中水份的风险。

厂家实力视频:

生产车间面积超2.5万㎡,公司现有员工340余人,其中研发技术人员占20%,公司现有厂房面积25000㎡,年产量5000台,连续2年产值超3亿。



 

产品应用

广泛用于半导体、新材料、生物工程、航天工业、医疗、化工等行业; 配微通道、真空设备、蒸馏系统、老化测试等

常见的配套设备有高压反应釜、双层玻璃反应釜、双层反应釜、微通道反应器 蒸馏结晶、半导体设备冷却、材料老化、结晶系统控温

 

结构原理及优势

高温时没有导热介质蒸发出来,而且不需要加压的情况下就可以实现 -80~190℃、-70~220℃、-55~250℃连续控温;

采用全密闭管道式设计,降低导热液需求量的同时,提高系统的热量利 用率,达到快速升降温度。 膨胀容器中的导热介质不参与循环,可以降低导热介质在运行中吸收水分和挥发的风险

 

型号SUNDI-725WSUNDI-735
SUNDI-735W
SUNDI-755
SUNDI-755W
SUNDI-775
SUNDI-775W
SUNDI-7A10WSUNDI-7A15W
介质温度范围-70℃~+250℃
控制系统前馈PID ,无模型自建树算法,PLC控制器
温控模式选择物料温度控制与设备出口温度控制模式 可自由选择
温差控制设备出口温度与反应物料温度的温差可控制、可设定
程序编辑可编制5条程序,每条程序可编制40段步骤
通信协议MODBUS RTU 协议  RS 485接口
外接入温度反馈PT100或4~20mA或通信给定(默认PT100)
温度反馈设备导热介质 进口温度、出口温度、反应器物料温度(外接温度传感器)三点温度
导热介质温控精度±0.5℃
反应物料温控精度±1℃
加热功率 kW2.53.55.57.51015
制冷量 kW  AT250℃2.53.55.57.51015
100℃2.53.55.57.51015
20℃2.53.55.57.51015
-60℃0.40.550.750.91.22.8
流量压力max  L/min bar2035355060110
1.21.21.21.21.51.5
循环泵磁力驱动泵
压缩机法国泰康/艾默生谷轮涡旋柔性压缩机
节流方式电子膨胀阀
蒸发器板式换热器
操作面板7英寸彩色触摸屏,温度曲线显示、记录
安全防护具有自我诊断功能;冷冻机过载保护;高压压力开关,过载继电器、热保护装置等多种安全保障功能。
密闭循环系统整个系统为全密闭系统,高温时不会有油雾、低温不吸收空气中水份,系统在运行中不会因为高温使压力上升,低温自动补充导热介质。
制冷剂R-404A/R23
接口尺寸ZG1/2ZG3/4ZG3/4ZG1ZG1ZG1
水冷型 W
温度 20度
900L/H
1.5bar~4bar
ZG1/2
1600L/H
1.5bar~4bar
ZG3/4
1800L/H
1.5bar~4bar
ZG3/4
2300L/H
1.5bar~4bar
ZG3/4
3500L/H
1.5bar~4bar
ZG1
4500L/H
1.5bar~4bar
ZG1 1/4
水冷尺寸 cm55*70*17555*70*17565*85*18565*85*18570*85*18580*120*185
重量kg190275320370370420
电源 380V 50HZ5.8kW8kW11kW14kW19kW28kW
外壳材质冷轧板喷塑 (标准颜色7035)
选配可选配以太网接口,配置电脑操作软件
选配选配外置触摸屏控制器,通信线距离10M
选配电源100V 50HZ单相,110V 60HZ 单相,230V 60HZ 单相, 220V 60HZ 三相,440V~460V 60HZ 三相
选配加热功率25kW以内sundi系列可选配介质控温精度士0.1℃,物料控温精度±0.1℃

 

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