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冠亚恒温小编为大家介绍常温高精度系列设备在光刻机涂胶显影温控中的应用。涂胶显影是光刻工艺的重要环节，涂胶过程中光刻胶的粘度、涂布均匀性与温度相关，显影过程中显影液的反应速率也受温度影响，温度偏差会直接影响涂胶、显影效果，常温高精度系列设备以 ±0.005℃的控温精度，适配涂胶显影设备的温控需求。
该系列设备温度范围为 + 15℃至 + 25℃，可满足涂胶显影设备对常温区间的温控需求，出口控温精度 ±0.005℃，可定制更高精度配置，减少温度波动对涂胶显影工艺的影响。制冷量 @20℃覆盖 2.5kW 至 25kW，可根据涂胶显影设备的热负荷需求选择适配型号，保障冷量供给稳定。
介质适配方面，设备支持氟化液、DI 水等介质，其中 DI 水可满足微电子领域对低电导率的要求，适配涂胶显影工艺对介质洁净度的需求。介质流量压力为 15LPM@3bar 至 30LPM@5bar，介质接口涵盖 Rc1/2、Rc3/4 等规格，可匹配涂胶显影设备的管路接口与流量需求。
控制模式采用本体出液口温度控制模式，可选工件负载温度控制，工艺工程温度控制可根据自创无模型自建树算法和串级算法结合，控制工件目标温度，实现动态控温，减少温度偏差对涂胶显影工艺的影响。设备采用 PID 算法或 PLC 控制，实现温度波动≤±0.005℃，保障涂胶显影过程中温度稳定。
在涂胶显影设备配套中，该系列设备可为涂胶机、显影机的温控模块提供稳定的冷却介质，控制设备运行温度，避免温度过高或波动导致的涂胶不均等问题。设备的安全防护配置适配半导体车间运行规范，具备多种保护功能，实时监测设备运行状态，异常时自动报jing并停机，保障设备与涂胶显影设备的安全运行。通讯方面，支持多种协议，可接入车间自动化控制系统，实现远程监控与参数调整，适配半导体产线的自动化运行需求。
常温高精度系列设备以高精度控温、多介质适配与稳定运行的特性，为涂胶显影工艺提供了可靠的温控支持，保障涂胶、显影工艺的稳定运行。
