厂家实力视频:
生产车间面积超2.5万㎡,公司现有员工340余人,其中研发技术人员占20%,公司现有厂房面积25000㎡,年产量5000台,连续2年产值超3亿。

产品应用

广泛用于半导体、新材料、生物工程、航天工业、医疗、化工等行业; 配微通道、真空设备、蒸馏系统、老化测试等
常见的配套设备有高压反应釜、双层玻璃反应釜、双层反应釜、微通道反应器 蒸馏结晶、半导体设备冷却、材料老化、结晶系统控温
结构原理及优势

高温时没有导热介质蒸发出来,而且不需要加压的情况下就可以实现 -80~190℃、-70~220℃、-55~250℃连续控温;
采用全密闭管道式设计,降低导热液需求量的同时,提高系统的热量利 用率,达到快速升降温度。 膨胀容器中的导热介质不参与循环,可以降低导热介质在运行中吸收水分和挥发的风险

| 型号 | SUNDI-825W | SUNDI-835W | SUNDI-855W | SUNDI-875W | SUNDI-8A10W | SUNDI-8A15W | SUNDI-8A25W | SUNDI-8A38W | SUNDI-8A60W | SUNDI-8A80W |
| 介质温度范围 | -80℃~+250℃ |
| 控制系统 | 前馈PID ,无模型自建树算法,PLC控制器 |
| 温控模式选择 | 物料温度控制与设备出口温度控制模式 可自由选择 |
| 温差控制 | 设备出口温度与反应物料温度的温差可控制、可设定 |
| 通信协议 | MODBUS RTU 协议 RS 485接口,以太网接口 |
| 外接入温度反馈 | PT100或4~20mA或通信给定(默认PT100) |
| 温度反馈 | 设备导热介质 进口温度、出口温度、反应器物料温度(外接温度传感器)三点温度 |
| 导热介质温控精度 | ±0.5℃ |
| 反应物料温控精度 | ±1℃ |
| 加热功率 kW | 3 | 3.5 | 5.5 | 7.5 | 10 | 15 | 25 | 38 | 60 | 80 |
| 制冷量 kW | 250℃ | 2.5 | 3.5 | 5.5 | 7.5 | 10 | 15 | 25 | 38 | 60 | 80 |
| -75℃ | 0.3 | 0.42 | 0.7 | 1.3 | 1.5 | 2.4 | 5 | 8 | 11 | 16 |
流量/压力 MAX L/min bar | 20 | 35 | 35 | 50 | 60 | 110 | 150 | 250 | 400 | 400 |
| 1.2 | 1.2 | 1.2 | 1.2 | 1.5 | 1.5 | 1.5 | 1.5 | 2.5 | 2.5 |
| 循环泵 | 磁力驱动泵 |
| 压缩机 | 日立、泰康、谷轮、松洋、卡莱尔等压缩机 |
| 操作面板 | 7英寸彩色触摸屏,温度曲线显示、记录 |
| 安全防护 | 具有自我诊断功能;冷冻机过载保护;高低压保护,过载继电器、热保护装置等多种安全保障功能。 |
| 制冷剂 | R-404A/R508B |
| 接口尺寸 | ZG1/2 | ZG3/4 | ZG3/4 | ZG1 | ZG1 | ZG1 | DN32 | DN40 | DN65 | DN65 |
水冷型 W 温度 20度 | 1800L/H 1.5bar~4bar ZG3/4 | 2000L/H 1.5bar~4bar ZG3/4 | 2800L/H 1.5bar~4bar ZG3/4 | 3500L/H 1.5bar~4bar ZG1 | 4200L/H 1.5bar~4bar ZG1 | 5600L/H 1.5bar~4bar DN32 | 10m³/H 1.5bar~4bar DN40 | 18m³/H 1.5bar~4bar DN65 | 28m³/H 1.5bar~4bar DN80 | 30m³/H 1.5bar~4bar DN80 |
| 外形尺寸 cm | 55*70*175 | 55*70*175 | 65*85*185 | 70*85*185 | 70*85*185 | 80*120*185 | 150*100*185 | 200*145*205 | 245*170*225 | 300*160*225 |
| 重量kg | 240 | 285 | 345 | 500 | 600 | 950 | 1300 | 1550 | 2200 | 2850 |
| 电源 380V 50HZ | 9.5kW | 11kW | 17kW | 20kW | 26kW | 36kW | 59kW | 98kW | 135kW | 177kW |
| 选配电源 | 非标准电源需定制 |
| 选配 | 加热功率25kW以内sundi系列可选配介质控温精度士0.1℃,物料控温精度±0.1℃ |
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