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SUNDI -100℃~+100℃

SUNDI -100℃~+100℃

制冷加热控温系统的典型应用:高压反应釜冷热源动态恒温控制、双层玻璃反应釜冷热源动态恒温控制、双层反应釜冷热源动态恒温控制、微通道反应器冷热源恒温控制;小型恒温控制系统、蒸馏系统控温、材料低温高温老化测试、组合化学冷源热源恒温控制、半导体设备冷却加热、真空室制冷加热恒温控制。

制冷加热控温系统优点与功能:温度范围从-120℃至350℃,性能优越,高精度、智能型温度控制。多功能报警系统和安全功能、7寸、10寸彩色TFT触摸屏图形显示,采用磁力驱动泵,没有轴封泄漏问题。高温降温技术,可以从300℃直接制冷降温【因为只有膨胀腔体内的导热介质才和空气中的氧气接触(而且膨胀箱的温度在常温到60度之间),可以达到降低导热介质被氧化和吸收空气中水份的风险。

厂家实力视频:

生产车间面积超2.5万㎡,公司现有员工340余人,其中研发技术人员占20%,公司现有厂房面积25000㎡,年产量5000台,连续2年产值超3亿。



 

产品应用

广泛用于半导体、新材料、生物工程、航天工业、医疗、化工等行业; 配微通道、真空设备、蒸馏系统、老化测试等

常见的配套设备有高压反应釜、双层玻璃反应釜、双层反应釜、微通道反应器 蒸馏结晶、半导体设备冷却、材料老化、结晶系统控温

 

结构原理及优势

高温时没有导热介质蒸发出来,而且不需要加压的情况下就可以实现 -80~190℃、-70~220℃、-55~250℃连续控温;

采用全密闭管道式设计,降低导热液需求量的同时,提高系统的热量利 用率,达到快速升降温度。 膨胀容器中的导热介质不参与循环,可以降低导热介质在运行中吸收水分和挥发的风险

型号SUNDI-1055WSUNDI-1075WSUNDI-10A10WSUNDI-10A15WSUNDI-10A25WSUNDI-10A38WSUNDI-10A60WSUNDI-10A80W
介质温度范围 -100℃~+100℃
控制系统前馈PID ,无模型自建树算法,PLC控制器
温控模式选择物料温度控制与设备出口温度控制模式 可自由选择
温差控制设备出口温度与反应物料温度的温差可控制、可设定
通信协议MODBUS RTU 协议  RS 485接口,以太网接口
外接入温度反馈PT100或4~20mA或通信给定(默认PT100)
温度反馈设备导热介质 进口温度、出口温度、反应器物料温度(外接温度传感器)三点温度
导热介质温控精度±0.5℃
反应物料温控精度±1℃
加热功率 kW5.57.5101525386080
制冷量 kW100℃5.57.5101525386080
-95℃0.70.91.21.82.94.57.29.5
流量/压力 MAX
L/min bar
355060110150250400400
1.21.21.51.51.51.52.52.5
循环泵磁力驱动泵
压缩机日立、泰康、谷轮、松洋、卡莱尔等压缩机
操作面板7英寸彩色触摸屏,温度曲线显示、记录
安全防护具有自我诊断功能;冷冻机过载保护;高低压保护,过载继电器、热保护装置等多种安全保障功能。
制冷剂R-404A/R23/R14
接口尺寸ZG3/4ZG1ZG1DN32DN32DN40DN65DN65
水冷型 W
温度 20度
5000L/H
1.5~4bar
ZG1 1/4
7000L/H
1.5~4bar
DN40
9000L/H
1.5~4bar
DN40
12m³/H
1.5~4bar
DN50
20m³/H
1.5~4bar
DN65
25m³/H
1.5~4bar
DN65
40m³/H
1.5~4bar
DN80
50m³/H
1.5~4bar
DN100
外形尺寸 cm80*120*185150*100*185150*100*185200*145*205200*145*205250*160*225300*160*225400*160*225
重量kg56570589012501600210029503350
电源 380V 50HZ26W28kW37kW49kW69kW82kW170kW200kW
选配电源非标准电源需定制
选配加热功率25kW以内sundi系列可选配介质控温精度士0.1℃,物料控温精度±0.1℃

 

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