半导体冷水机补液罐溢流,也就是介质从补液罐溢出。溢流会造成介质浪费,溢出的介质流到设备周边,存在污染芯片样品、电气部件的风险。故障诱因分为介质热膨胀、缓冲罐失效、压力异常、误加注介质等情况。本文整理现象对照表,给出排查处置思路。

一、补液罐溢流现象对照表
| 溢流表现 | 内在诱因 | 带来的衍生风险 |
| 温度升高之后才发生溢流,低温工况正常 | 介质升温体积膨胀,补偿机构失效 | 介质溢出,污染周边电气与工装样品 |
| 加注介质完成立刻发生溢流 | 介质加注过量,超过罐内允许容积 | 人为加注操作失误造成溢出 |
| 溢流伴随系统压力大幅度波动 | 缓冲罐气囊破损,压力补偿功能失效 | 同时会出现压力漂移、停机负压等连锁问题 |
| 无规律间歇性溢流 | 泄压阀卡滞,系统超压后瞬时泄压溢流 | 溢流现象随机出现,不容易复现 |
二、分层逐项排查处置流程
确认溢流发生时机
区分溢流是加注介质后立刻出现,还是升温运行阶段才出现。如果是加注介质时直接溢出,说明介质加注量超过补液罐额定容积,需要排放多余介质,把液位调整到设备规定区间。
升温运行阶段溢流排查
设备升温介质受热体积膨胀,正常情况体积变化由缓冲罐吸收。升温就发生溢流,优先核查缓冲罐状态,复测缓冲罐预充压力。预充压力丢失,大概率气囊破损,失去体积补偿能力。 缓冲罐出现故障,需要停机泄压,更换气囊或者整体更换缓冲罐组件,重新设置预充压力。
泄压阀部件检查
查看系统泄压阀,阀座出现杂质卡滞,系统压力升高会出现介质瞬时泄压溢流。观察溢流是否发生在系统压力冲高的瞬间。 泄压阀卡滞,可以做拆解清洗;损坏则更换同规格泄压阀配件。
溢流之后现场处理
发生溢流,首先将多余介质排放至标准液位;清理溢出的介质,避免流进电控柜,同时避开芯片测试工装,防止介质污染样品。 排查并消除故障根源之后,做完整的升降温循环测试,观察是否再次发生溢流。
三、运维提示
补液罐液位只可以维持在说明书标注高低液位之间,不要加注到满罐状态,预留介质热膨胀对应的空间。
总结
半导体冷水机补液罐溢流,区分加注过量、升温膨胀补偿失效、泄压阀卡滞几类情况。发生溢流先把液位调整至标准区间,清理溢出介质,再定位故障根源;补液罐不要加满,预留热膨胀空间,避免升温后介质溢出。

FAQ
Q:补液罐加满介质,低温运行没问题,升温就溢流是什么原因?
A:介质受热体积会膨胀,罐内没有预留膨胀空间,就会升温之后溢出,需要排放多余介质。
Q:出现溢流,直接把介质放掉到正常液位就修好了吗?
A:放掉介质只是临时处理,要确认缓冲罐、泄压阀有没有故障,不然会再次溢流。
Q:缓冲罐预充压力太高,会不会造成补液罐溢流?
A:预充压力偏离设备规定值,会改变体积补偿区间,会提升溢流的发生概率。
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