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复叠制冷技术:Chamber 试验箱芯片测试应用

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冠亚恒温小编为大家说明 Chamber 试验箱的复叠制冷技术在芯片测试中的应用。部分半导体芯片需在超低温环境下进行老化测试,设备的复叠制冷技术可稳定实现 – 40℃低温输出,适配宽温域芯片测试需求。

复叠制冷系统由两级制冷回路组成,高温级回路采用 R404A 制冷剂,低温级回路采用 R23 制冷剂,通过冷凝蒸发器实现热量传递。高温级回路将低温级回路的热量传递至外界,低温级回路实现箱内空气的深度制冷,可稳定输出 – 40℃低温,配合电加热系统,实现 – 40℃至 + 150℃的宽温域温度控制。

在芯片测试应用中,复叠制冷技术主要用于 GD-518-B-DC 与 B-2-DC 型号,适配超低温至高温的宽温域测试场景,可模拟芯片在严寒环境下的工作状态,验证芯片的低温启动性能与稳定性。超低温环境下,芯片的材料性能、电性能可能发生变化,通过复叠制冷技术构建的低温测试环境,可加速芯片的低温老化过程,筛选出对低温min感的早期失效芯片。

复叠制冷系统的运行稳定性高,可长时间连续运行,适配芯片老化测试的长时间测试需求。系统配备高压、低压保护装置,实时监测制冷回路压力,异常时自动停机保护,保障设备运行安全。同时,复叠制冷系统的换热效率高,可快速实现降温,配合线性升降温速率控制,模拟芯片从高温到低温的快速温变过程,验证芯片的热应力耐受性。

与单级制冷技术相比,复叠制冷技术可实现更低的温度下限,同时在宽温域区间内维持较高的控温精度,温度波动度≤±0.1℃,温度均匀度≤±3℃,保障超低温环境下的测试数据准确性。

复叠制冷技术的应用,为超低温芯片老化测试提供了可靠的技术支持,助力宽温域半导体芯片的可靠性验证。

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